磁光克尔效应丈量体系

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磁光克尔效应丈量体系

科研级高精度磁光克尔效应丈量体系 高精度斯托克斯量丈量体系

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科研级高精度磁光克尔效应丈量体系

高精度斯托克斯量丈量体系


Hinds Instruments 公司的新型磁光克尔效应丈量体系能够用来绘制磁性薄膜质料的磁滞回线。通光调制手艺,该体系能够供应科研级别的极高丈量精度


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Hinds Instruments’公司的新型磁光克尔效应丈量体系能够用来绘制磁性薄膜质料的磁滞回线。通光光弹调制手艺,该体系能够供应科研级别的极高丈量精度。


“光弹调制手艺用来丈量绘制磁性薄膜质料磁滞回线的美好之处在于, 它不只增添了微小磁光效应的疑噪比,并且能够同时探测到取克尔(或法拉第)椭偏率和角离别成反比的基频和二次谐波的旌旗灯号而且在一些状况下能够消弭偏光器件中的缺点 。那便意味着能够同时得到椭偏率和偏转角那两个主要的参数.”


- Dr. Ron Atkinson, Professor Emeritus,贝尔法斯特皇后大学。


产物特性

•极高反复精度下的丈量体系

•同时丈量显现椭偏率和偏转角

•高速丈量磁滞回线

•光学丈量,样品无损

•区分于扭转波片等手腕,光路流动,丈量稳固。


参数:

•光源:635 nm laser diode

•光弹性手艺

•磁场:电磁场

•最大磁场:+/- 2400 Gauss (0.24T)

•霍尔探头探测

•磁场探测精度:0.5GS

•Sample size: 30 mm X 30 mm

•Size (footprint): 12 in x 31 in (305 mm x 787 mm)



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